반도체 및 첨단 제조 산업에서는 공정 안정성과 수질 관리가 매우 중요한 요소로 작용한다. 특히 공정에서 발생하는 폐수에는 난분해성 유기물과 미량 오염물질이 포함되어 있어, 이를 제거하고 다시 공정에 활용하는 것은 기술적으로 높은 난이도를 요구한다.
기존 수처리 공정은 이러한 난분해성 유기물을 완전히 제거하는 데 한계가 있으며, 이로 인해 재이용 가능한 수질 확보가 어려운 경우가 많다. 또한 공정 특성에 따라 수질 기준이 매우 엄격하기 때문에, 단순한 처리 기술만으로는 적용이 제한적이다.
엔하이텍은 이러한 문제를 해결하기 위해 자외선(UV) 기반 고도산화 기술을 활용하여 기존 공정으로 제거하기 어려운 유기물의 분해를 가능하게 하는 기술을 개발하고 있다.
이를 통해 공정폐수의 재이용을 높이고, 공업용수 사용량 절감 및 안정적인 공정 운영에 기여하는 것을 목표로 하고 있다.